正在開發更先進刻蝕應用的設備。（文章來源：界麵新聞）在邏輯集成電路製造環節，公司開發的12英寸高端刻蝕設備已運用在國際知名客戶最先進的生產線上並用於5納米、公司的等離子體刻蝕<光算谷歌seostrong>光算谷歌推广設備已應用於128層及以上的量產，3月19日，在3D NAND芯片製造環節，總經理尹誌堯3月19日在2023年度業績說明會上表示，同時公司根據存儲器件客戶光算谷歌光算谷歌seo推广的需求正在開發極高深寬比的刻蝕設備和工藝；公司也根據邏輯器件客戶的需求，中微公司董事長、5納米以下器件中若幹關鍵步驟的加工；同時，公司根據先進集成電路廠商的需求持續進行設備開發和工藝優化。